技術(shù)編號(hào)：5267427
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明的實(shí)施例涉及制造自組裝嵌段共聚物薄膜的方法、和自所述方法產(chǎn)生的裝置。背景技術(shù)隨著納米級(jí)機(jī)械、電力、化學(xué)及生物裝置及系統(tǒng)的加速發(fā)展，人們需要用以制造納 米級(jí)裝置及組件的新的方法及材料。隨著半導(dǎo)體特征的尺寸縮小至不易于通過(guò)傳統(tǒng)光刻術(shù) 獲得的大小，與導(dǎo)線(xiàn)進(jìn)行電接觸已變成一個(gè)重大挑戰(zhàn)。光學(xué)光刻加工方法難以制造60納米 級(jí)別以下的結(jié)構(gòu)及特征。自組裝二嵌段共聚物的使用為在納米級(jí)尺寸上進(jìn)行圖案化提供另 一途徑。二嵌段共聚物膜通過(guò)聚合物構(gòu)成嵌段在退火后(例如，通過(guò)在...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。