技術(shù)編號(hào)：5267711
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種拋光鋁盤(disk)或表面具有二氧化硅的基體以得到具有較小平均波度的拋光表面的拋光劑組合物，該組合物中SiO2的濃度為0.5-50重量％，并含有具有不同的單一形態(tài)粒子尺寸數(shù)值分布的膠態(tài)二氧化硅粒子團(tuán)。在這里，鋁盤的拋光是指拋光由鋁或其合金構(gòu)成的磁存儲(chǔ)盤基體自身的表面，或拋光在基體上具有鎳-磷(Ni-P)或鎳-硼(Ni-B)鍍層尤其是由90-92％的Ni和8-10％的P構(gòu)成的非電解鎳-磷(Ni-P)硬鍍層和氧化鋁層的表面。表面具有二氧化硅的基體...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。