技術(shù)編號(hào)：5268413
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及 一 種。技術(shù)背景現(xiàn)在，在許多技術(shù)應(yīng)用中需要薄的自支承層(窗口 )。為了產(chǎn) 生這種非常薄(例如在亞微米范圍內(nèi))的自支承層，需要具有非常小開(kāi)口 (數(shù)量級(jí)10pm)但具有較高的孔隙率的支承結(jié)構(gòu)。至今，X射線窗口由具有很小的Z (原子的核電荷數(shù))的材料 如鈹構(gòu)成，或者例如通過(guò)將有機(jī)薄膜放置到，即涂覆到(如由硅構(gòu) 成的)支承結(jié)構(gòu)上而構(gòu)成。然而，鈹尤其具有顯著的缺點(diǎn)，即其產(chǎn) 生特殊垃圾并因此很不方便清除。在[1 ]中描述了用于產(chǎn)生X射線窗口的另一種方法。在...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。