技術(shù)編號：5268999
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供一種復(fù)合腔體的形成方法，包括步驟提供硅襯底；在其正面形成氧化層；對氧化層作圖形化，形成一個或多個凹槽，凹槽的位置與待形成的小腔體的位置對應(yīng)；提供鍵合片，將其與圖形化的氧化層鍵合，在硅襯底與鍵合片之間形成一個或多個密閉的微腔結(jié)構(gòu)；在鍵合片的上方形成保護(hù)膜，并在硅襯底的背面形成掩蔽層；對掩蔽層作圖形化，掩蔽層的圖形與待形成的大腔體的位置對應(yīng)；以掩蔽層為掩模，從背面刻蝕硅襯底至其正面的氧化層，在硅襯底中形成大腔體；以掩蔽層和氧化層為掩模，從背面穿過硅襯...
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