技術(shù)編號(hào)：5269070
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。，屬于硅表面微納米織構(gòu)的制備方法。該方法首先利用勻膠機(jī)在基板表面均勻的涂覆一層光刻膠；將帶有光刻膠的基板在激光干涉系統(tǒng)中進(jìn)行干涉曝光，實(shí)現(xiàn)對(duì)光刻膠的織構(gòu)化處理；最后將基板置于超聲加工系統(tǒng)中進(jìn)行加工，無(wú)光刻膠覆蓋區(qū)域的基板材料將被去除，隨著超聲加工時(shí)間的增加，去除深度將逐漸增大，控制激光干涉光刻的曝光參數(shù)、超聲振動(dòng)加工參數(shù)實(shí)現(xiàn)尺寸可控、大面積的周期性微納米織構(gòu)制備。優(yōu)點(diǎn)采用超聲振動(dòng)加工無(wú)污染、操作簡(jiǎn)單，超聲加工過(guò)程中，不會(huì)破壞基板表面的光刻膠層，圖形轉(zhuǎn)移效果...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。