技術(shù)編號(hào)：5811348
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及涂布性優(yōu)異的防反射涂層用組合物以及使用了該組合物的圖案形成方法。背景技術(shù) 在半導(dǎo)體元件的制造過程中一直應(yīng)用如下光刻技術(shù)，即在硅片等基板上形成光致抗蝕膜，對(duì)其選擇性地照射活性光線后，進(jìn)行顯影處理，在基板上形成抗蝕圖案。近年來，在LSI中，為了得到更高的集成度，光刻過程中的加工線寬的微細(xì)化正在急速地發(fā)展。在發(fā)展這種加工線寬的微細(xì)化時(shí)，以光致抗蝕劑、防反射膜、曝光方法、曝光裝置、顯影劑、顯影方法、顯影裝置等為代表，對(duì)光刻技術(shù)中的所有步驟、使用材料提出了...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。