技術編號：5831207
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。背景技術 本發(fā)明大體上涉及基片制造技術，特別涉及使用非磁性限制等離子的處理技術。更具體地，本發(fā)明涉及用于感應等離子處理室中維持受限等離子失效(稱為失限(un-confinement))的方法和設備。 在基片例如半導體基片或如用在平面顯示器制造中的玻璃基板的處理中，往往采用等離子。作為等離子室中基片處理的一部分，例如，基片分為多個模片，或矩形區(qū)域，其每個將成為一個集成電路。該基片然后在一系列步驟中處理，在這些步驟中有選擇的去除(蝕刻)和沉積(沉積)材料以便在...
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