技術(shù)編號:5839570
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及氣體分析,特別涉及在位式氣體測量方法和裝置。 背景技術(shù)在冶金、化工、水泥、發(fā)電等領(lǐng)域中,廣泛使用在位式氣體測量裝置分析 過程管道內(nèi)的氣體濃度等參數(shù),測得的氣體參數(shù)對優(yōu)化生產(chǎn)工藝、提高生產(chǎn)效 率、節(jié)約能源氣、減少污染物排放等都有重要意義。如圖1所示, 一種常用的在位式氣體測量裝置,光發(fā)射單元14和光接收單 元15設(shè)置在過程管道10的兩側(cè),同時通過窗口片16、 17隔離待測氣體11;其 中,光源2設(shè)置在光發(fā)射單元14內(nèi),探測器20設(shè)置在光接收單元15...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。