技術(shù)編號(hào):5865263
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種,包括以下步驟制備介電材料的膜;以程序化方式將聚焦離子束施加在膜上,以便獲得由根據(jù)預(yù)定晶格定位的通孔規(guī)則的平面布置組成的光子晶體,所述光子晶體還包括由晶格的在內(nèi)部沒(méi)有所述通孔的空間限制區(qū)域組成的諧振腔,所述諧振腔形成以便與至少一個(gè)電磁輻射波長(zhǎng)諧振的尺寸;以及在所述諧振腔處提供等離子激元波導(dǎo),其中提供等離子激元波導(dǎo)包括以下步驟a)從金屬有機(jī)先驅(qū)氣體開(kāi)始,通過(guò)由聚焦電子束誘導(dǎo)的化學(xué)汽相沉積在諧振腔上生成突出結(jié)構(gòu);b)沉積貴金屬層;以及c)借助于聚...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。