技術(shù)編號：5865500
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明，是關(guān)于。 背景技術(shù)以往，半導(dǎo)體電路元件或液晶顯示元件的制造工藝中，會進(jìn)行形成于半導(dǎo)體晶圓 (wafer)或液晶基板(以下稱為“樣本”)表面的光阻層的圖案的缺陷檢查。例如，已揭示有調(diào)整來自光源的光的偏光狀態(tài)與形成光學(xué)像的0次及高次繞射光的強度以比較樣本表面的影像的檢查方法。此種檢查，使用Critical Dimension SEM(測距掃描型電子顯微鏡， 以下稱為“CD-SEM”)。先前技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1 專利第3956942號公報。 發(fā)明內(nèi)...
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