技術編號:5925476
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種測量粘附強度的方法,特別涉及一種測量多層堆垛中(特別是多種材料堆垛中)的層間界面處粘附強度的方法。背景技術 包含集成電路的微電子器件可包括多層的堆垛。在很多情況下,需要測量兩層材料之間的粘附強度。通常情況下,當檢測產(chǎn)品的可靠性時,這是在上述微電子器件生產(chǎn)過程中的一種需要。通常兩個層由不同材料構成,但也可能出現(xiàn)由基本上相同的材料構成的兩層之間的界面。在生產(chǎn)這種包含集成電路的微電子器件過程中,需要測量晶片中的層間粘附強度,特別是以薄膜形式沉積的層...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。