技術編號：5939021
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。相關申請的交叉引用本申請涉及Chou等人于2010年5月21日提交的美國臨時專利申請序列號61/347，178，標題為“用于局部電場、光吸收和光輻射的增強的結構”，并要求其優(yōu)先權，其以引用方式并入本文。有關美國聯(lián)邦資助的研究的聲明本發(fā)明是利用美國政府支持在空軍科學研究局給予的資助編號FA9550-08-1-0222下完成的。美國政府在本發(fā)明中擁有某些權利。背景技術本申請涉及用于實現(xiàn)結構或材料的一些特性的增強的微米級和納米結構，包括置于結構上或附近的分子，其...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。