技術(shù)編號(hào)：5945311
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及電磁兼容試驗(yàn)技術(shù)，特別涉及一種輻射場(chǎng)均勻性校驗(yàn)定位裝置，用于進(jìn)行電磁兼容試驗(yàn)用電波暗室的特性參數(shù)測(cè)量。背景技術(shù)國(guó)際電工委員會(huì)電磁兼容標(biāo)準(zhǔn)IEC61000-4-3中規(guī)定了 16點(diǎn)場(chǎng)均勻性校驗(yàn)的要求在一定功率的電磁波入射條件下，在圖I所示的空間平面內(nèi)均勻分布的16個(gè)位置點(diǎn)中的12個(gè)位置點(diǎn)上，任意兩位置點(diǎn)采用電場(chǎng)探頭測(cè)得的場(chǎng)強(qiáng)差應(yīng)小于6分貝。常見的輻射場(chǎng)均勻性校驗(yàn)定位裝置，為單棒狀，包括垂直連桿、電場(chǎng)探頭，電場(chǎng)探頭設(shè)置在垂直連桿上并能沿垂直連桿滑動(dòng)，常...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。