技術(shù)編號:5957113
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及運(yùn)用單晶硅膜作為壓力敏感膜的,具有抗電磁干擾、可組成分布壓力測量網(wǎng)絡(luò)等性能的光纖MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))壓力傳感器及其制作方法。背景技術(shù) 目前通常使用的絕對、相對壓力傳感器結(jié)構(gòu)當(dāng)中,法布里—珀羅光干涉腔是采用以下工藝實(shí)現(xiàn)的。首先將硼硅玻璃光刻制作好圖案;然后用BOE腐蝕液對未使用光刻膠掩蔽的硼硅玻璃進(jìn)行腐蝕,腐蝕得到所需厚度的空腔;最后運(yùn)用陽極鍵合工藝將硼硅玻璃與硅片緊密鍵合在一起,制作法布里—珀羅光干涉腔。如果制作相對壓力傳感器,則在硅片與硼硅玻...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。