技術編號：5958389
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及準分子激光器雙腔放電同步領域，特別是用作光刻光源的高重頻ArF準分子激光器MOPA雙腔氣體放電同步控制，具體涉及兩路反饋信號相對時差的精確測量系統(tǒng)。背景技術目前，準分子激光是大規(guī)模半導體集成電路光刻的主要光源。隨著光刻對光源輸出功率和線寬要求的提高，單腔結構準分子激光器難以同時滿足線寬與功率的要求。雙腔結構的主振-振蕩放大技術被引入以解決此矛盾。其基本思想是利用種子腔產生小能量的窄線寬種子光，注入放大腔輸出大能量脈沖，從而得到窄線寬、大功率的優(yōu)質...
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