技術(shù)編號(hào):5965503
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于光學(xué)測量,涉及的是監(jiān)控氣體溫度的裝置,特別是一種基于分子光譜來監(jiān)控放電等離子氣體溫度的裝置及方法。本發(fā)明尤其適用于分子氣體激光器腔內(nèi)氣體溫度監(jiān)控。背景技術(shù)分子氣體激光器,例如CO2激光器、N2激光器以及準(zhǔn)分子激光器,在工業(yè)、軍事、醫(yī)療、科研等領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用。分子氣體激光器幾乎都采用放電泵浦的方式將能量注入,所以放電質(zhì)量的好壞對于激光器的性能尤為重要。而一方面,放電過程中氣體的溫度是影響放電質(zhì)量好壞的重要因素;另一方面,氣體的溫度也是放電質(zhì)量...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。