技術編號：5996581
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及非接觸紅外測溫領域，尤其是涉及一種用于金屬有機物化學氣相沉積化學氣相沉積設備的紅外輻射測溫校準裝置。背景技術化學氣相沉積技術(MetalOrganic Chemical Vapor Deposition,簡稱MOCVD)集精密機械、半導體材料、真空電子、流體力學、傳熱學、光學、化學、計算機多學科為一體，是一種自動化程度高、價格昂貴、技術集成度高的高端半導體材料、光電子專用設備。MOCVD是一種非平衡生長技術，其工作機理是通過源氣體傳輸，使得I...
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