技術(shù)編號(hào)：6003446
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光學(xué)測量，尤其涉及一種光纖束分光的垂直入射寬帶偏振光譜儀及光學(xué)測量系統(tǒng)。背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展，利用光學(xué)測量技術(shù)來快速精確地檢測半導(dǎo)體薄膜的厚度、材料特性及周期性結(jié)構(gòu)的三維形貌是控制生產(chǎn)過程，提高生產(chǎn)率的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，主要應(yīng)用于集成電路、平板顯示器、硬盤、太陽能電池等包含薄膜結(jié)構(gòu)的工業(yè)中。利用不同材料、 不同結(jié)構(gòu)的的薄膜在不同波長對(duì)不同偏振態(tài)的入射光具有不同的反射率，其反射光譜具有獨(dú)特性。當(dāng)今先進(jìn)的薄膜及三維結(jié)構(gòu)測量設(shè)備，如橢圓偏振儀和光學(xué)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。