技術(shù)編號(hào)：6115790
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于薄膜傳質(zhì)表征，具體涉及一種原位表征金屬薄膜氧化反應(yīng)動(dòng)力學(xué)過程的方法。背景技術(shù) 傳質(zhì)特性是材料的基本性質(zhì)之一，而金屬氧化反應(yīng)的本質(zhì)是擴(kuò)散和傳質(zhì)。厚度為納米尺寸(1～100nm)的金屬薄膜體系在磁、電、光學(xué)器件和半導(dǎo)體工業(yè)等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。由于電子器件尺寸減小，膜的大氣隔層厚度降低，從而使得制造與使用中的腐蝕影響問題不容忽視，其中薄膜氧化是一個(gè)重要方面。然而到目前為止，人們在此方面所關(guān)心的大量問題并沒有得到解決，這其中包括薄膜的氧化反應(yīng)動(dòng)力學(xué)過程表...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。