技術(shù)編號(hào)：6120238
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及光電分析系統(tǒng)，特別涉及一種在位式光電分析系統(tǒng)。背景技術(shù)在位式光電分析系統(tǒng)，如應(yīng)用吸收光譜技術(shù)(如半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)、差分光學(xué)吸收光譜技術(shù)、非分光紅外吸收光譜技術(shù)等)的在位式氣體分析系統(tǒng)，可實(shí)時(shí)在位分析各種過(guò)程參數(shù)，無(wú)需對(duì)被分析過(guò)程介質(zhì)進(jìn)行采樣，在現(xiàn)代工業(yè)、科研、環(huán)保等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。該類分析系統(tǒng)的工作原理是從測(cè)量探頭中光發(fā)射部件中的光源(或光源安裝在遠(yuǎn)處，光源發(fā)出的光通過(guò)光纖引到測(cè)量探頭)發(fā)射一束光到被測(cè)過(guò)程環(huán)境中，與之相對(duì)應(yīng)的(另一...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。