技術(shù)編號(hào)：6131554
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體激光干涉儀，特別是一種。背景技術(shù)信息技術(shù)和微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)技術(shù)的迅速發(fā)展，對(duì)位移檢測(cè)技術(shù)提出了越來越高的要求。干涉測(cè)量因?yàn)榫哂懈呔?、高分辨率、非接觸性等優(yōu)點(diǎn)被廣泛研究。正弦相位調(diào)制干涉技術(shù)是一種國(guó)際前沿的干涉測(cè)量技術(shù)，具有精度高、調(diào)制方便、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn)，近年來受到研究人員的重視，在位移測(cè)量領(lǐng)域得到了很大發(fā)展。在正弦相位調(diào)制位移測(cè)量干涉儀中，正弦相位調(diào)制深度是求解待測(cè)位移的關(guān)鍵參數(shù)，其測(cè)量精度將直接影響待測(cè)位移的精度。0. Sa...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。