技術編號:6136530
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明是關于光學原材料,特別是KrF(248nm)或者ArF(193nm)激元激光器石版印刷照明系統(tǒng)透鏡投影透鏡、激元激光器加工機等的光學系統(tǒng)透鏡的劣化預測法以及耐用脈沖數(shù)的預測法。在硅等的晶片上將集成電路的微細圖案曝光轉印的石版印刷技術中,使用叫做逐次移動式曝光裝置的曝光裝置。該逐次移動式曝光裝置的光源,近年來隨著LSI的高集成化,進行從g線向i線的短波長化,而且隨著LSI進一步的高集成化,逐次移動式曝光裝置的光源向KrF和ArF激元激光器轉移。而且,在...
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