技術(shù)編號：6154240
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種干涉振動(dòng)位移決定方法、振動(dòng)頻率決定方法和干涉裝置。 背景技術(shù)傳統(tǒng)的光干涉表面形貌顯微測量儀，以測量微結(jié)構(gòu)表面輪廓為主，而因其整體架 構(gòu)簡單與非接觸測量特性，應(yīng)用領(lǐng)域相當(dāng)廣泛，包含晶片的表面粗糙度和平面度的測量、激 光標(biāo)記深度的測量、倒裝工藝中金球凸塊的尺寸和共面度的測量、液晶平面顯示器中新式 彩色濾光片上間隔柱(spacer)尺寸和高度的測量、光纖端面和微光學(xué)元件表面形貌的測 量等。而且光干涉技術(shù)更利用其低相干的特性，配合陶瓷壓電位移傳感器的...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。