技術(shù)編號：6227477
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明提供了一種激光勘查裝置，發(fā)射用于現(xiàn)場勘查的光束，包括多個半導體激光單元，以陣列方式設置在底座上；匯聚反射鏡，設置在半導體激光單元陣列上方以反射多個半導體激光單元發(fā)射的激光匯聚到出光口以形成出射光束；和調(diào)焦透鏡部件，設置在出光口，調(diào)焦透鏡部件用于對出射光束進行調(diào)節(jié)。本發(fā)明的激光勘查裝置在勘探過程中不會破壞痕跡。專利說明激光勘查裝置[0001]本發(fā)明涉及勘查，特別是涉及激光勘查裝置。背景技術(shù)[0002]公安刑偵現(xiàn)場勘查中需要發(fā)現(xiàn)的痕跡包括大量生物質(zhì)痕跡、...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。