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技術(shù)編號(hào)：6233928

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本發(fā)明公開(kāi)了一種，制造方法，包括對(duì)SOI硅片熱氧化，形成薄氧化層，然后LPCVD淀積低應(yīng)力氮化硅；在SOI硅片背面進(jìn)行光刻，濕法腐蝕出壓力敏感膜，并在壓力敏感膜區(qū)域處形成空腔；去除SOI硅片上的氮化硅和氧化硅；對(duì)單晶硅襯底硅片進(jìn)行熱氧化，并在背面上光刻、腐蝕出對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，去除氧化層；對(duì)SOI硅片和單晶硅襯底進(jìn)行硅硅鍵合，使SOI硅片上的空腔形成密閉空腔；對(duì)SOI硅片頂層硅進(jìn)行離子注入，并進(jìn)行光刻、刻蝕，形成8個(gè)摻雜單晶硅體電阻；濺射金屬，并光刻、腐蝕，形成金...
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