技術(shù)編號：6234233
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供了一種環(huán)狀光學(xué)裝置(100)，包括包括以旋轉(zhuǎn)軸線(A)為中心的環(huán)(11)的環(huán)狀中間光學(xué)裝置(1)；和基本上同軸地位于環(huán)(11)內(nèi)的輔助光學(xué)結(jié)構(gòu)(2)。輔助光學(xué)結(jié)構(gòu)(2)和環(huán)狀中間光學(xué)裝置(1)被具有低于輔助光學(xué)結(jié)構(gòu)的折射率的介質(zhì)折射率的介質(zhì)(12)分隔開。輔助光學(xué)結(jié)構(gòu)(2)保持樣本以被入射電磁輻射照射。來自輔助光學(xué)結(jié)構(gòu)(2)且在環(huán)狀中間光學(xué)裝置(1)的環(huán)(11)內(nèi)的被改變方向的輻射在所述被改變方向的輻射的入射角超過預(yù)定入射閾值的情況下被允許進(jìn)入到...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。