技術(shù)編號：6736487
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及膜材料技術(shù)，特別涉及。背景技術(shù) 制造薄膜的主要方法，包括物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)，物理氣相沉積技術(shù)指的是利用某種物理的過程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)或受到離子或粒子轟擊時物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質(zhì)從源物質(zhì)到薄膜的可控原子轉(zhuǎn)移過程。物理氣相沉積技術(shù)有蒸發(fā)法、濺射法、離子鍍、反應(yīng)蒸發(fā)沉積、離子束輔助沉積、離子原子團束沉積等方法?；瘜W(xué)氣相沉積技術(shù)是利用氣態(tài)的先驅(qū)反應(yīng)物，通過原子、分子間化學(xué)反應(yīng)的途徑生成固態(tài)薄膜的技術(shù)。氣相沉積技術(shù)可...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。
該類技術(shù)無源代碼，用于學(xué)習(xí)原理，如您想要源代碼請勿下載。