技術(shù)編號：6744599
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及光存儲設(shè)備，具體涉及寫一次光存儲系統(tǒng)中備用扇區(qū)和校正扇區(qū)的管理。在光盤上記錄信息時，應(yīng)將激光固定在能夠適當(dāng)形成記錄標記的功率級，無論這些標記是用可重寫磁光(MO)光盤上點的反射極化強度的變化表示的，還是用寫一次燒蝕光盤表面燒蝕的凹槽表示的，抑或是用相變(PC)光盤晶體態(tài)區(qū)和非晶體態(tài)區(qū)之間的反射率的變化表示的。然而，即使在生產(chǎn)光盤時固定激光功率，也可能有許多因素使得這種固定法不是最優(yōu)的。例如，不同廠商的兩片介質(zhì)，或者相同廠商不同批次的介質(zhì)，其特性可...
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