技術(shù)編號：6764618
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明提供用于產(chǎn)生保護膜的方法，該方法可用于制造磁記錄介質(zhì)，該方法包括步驟(a)提供形成在所述襯底上的磁性層；以及(b)通過使用特定低飽和烴氣和特定低不飽和烴氣的混合氣作為源氣體的等離子體CVD方法在該磁性層上形成保護膜，其中步驟(b)包括在該磁性層上形成第一保護膜的步驟(b-1)以及在該第一保護膜上形成第二保護膜的步驟(b-2)，步驟(b-1)是通過使用源氣體的等離子體CVD方法執(zhí)行的，在該源氣體中，氣體混合比被調(diào)節(jié)以使在源氣體中相對每個碳原子氫原子的平...
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