技術(shù)編號(hào)：6774598
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及磁記錄介質(zhì)及磁記錄裝置。背景技術(shù) 近年來，磁存儲(chǔ)裝置例如硬盤驅(qū)動(dòng)器或類似裝置的存儲(chǔ)容量有了顯著的提高，而用在這些裝置中的磁記錄介質(zhì)的表面記錄密度也在平穩(wěn)的增長(zhǎng)。已用作這種磁記錄介質(zhì)多年的介質(zhì)包括面內(nèi)(in-plane)記錄介質(zhì)，其中，在記錄層中記錄的磁化方向沿著面內(nèi)方向。但是，在這種面內(nèi)磁記錄介質(zhì)中，記錄位由于記錄磁場(chǎng)及熱起伏而易于消失，所以增加表面記錄密度受到限制。這樣，作為一種記錄位比面內(nèi)磁記錄介質(zhì)更具熱學(xué)穩(wěn)定性且可能增大表面記錄密度的介質(zhì)，...
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