技術(shù)編號(hào)：6796079
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。抗光蝕劑組合物用于制造小型電子元件的縮微平版印刷工藝，例如用于制造計(jì)算機(jī)芯片和集成電路中。通常在這些工藝中，先將抗光蝕劑組合物的薄膜涂層涂覆在基片材料例如用于制造集成電路的硅片上。然后烘烤該涂覆的基片以便蒸發(fā)抗光蝕劑組合物中的溶劑并將該涂層固定在基片上。接著，該基片的烘烤過的涂覆表面暴露在圖形狀的輻射中。該輻射曝光引起該涂覆表面曝光區(qū)域中的化學(xué)變化。可見光、紫外(UV)光、電子束和X射線輻射能量是現(xiàn)在縮微平版印刷工藝中通常使用的輻射類型。圖形狀曝光后，用顯...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。