技術(shù)編號：6800422
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。背景技術(shù)本發(fā)明涉及新型抗反射涂料組合物及其在反射基材和光敏涂層間形成薄層的用途。這些組合物在用光刻技術(shù)制造半導(dǎo)體設(shè)備中尤為有用。而且，該新型聚合物可用作光致抗蝕劑組成中的吸收聚合物。光致抗蝕劑組合物被用于制造微型化電氣組件的微刻工藝中，例如計算機芯片和集成電路的制造中。通常，在這些工藝中，首先將光致抗蝕劑組合物的薄膜涂層涂覆在基材上，例如用于制造集成電路的硅晶片上。而后烘焙涂覆的基材蒸發(fā)光致抗蝕劑組合物中的所有溶劑并將涂層固定在基材上。而后對基材的烘焙的涂...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。