技術(shù)編號:6810488
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及通過等離子體輔助氣相沉積生產(chǎn)聚合物電解膜的方法,與現(xiàn)有技術(shù)相比,所述方法通過選擇其起始原料實(shí)現(xiàn)顯著的簡化。此外,本發(fā)明涉及等離子體涂覆的聚吡咯膜。等離子體聚合層通常具有高和可以調(diào)節(jié)的交聯(lián)度,這可以獲得高的耐化學(xué)腐蝕性和熱穩(wěn)定性(參見,例如R.Hartmann“Plasmapolymodifizierung von Kunststoffoberflchen”,Techn.Rundschau17(1988)第20-23頁;A.Brunold等人“M...
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