技術(shù)編號：6816251
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體器件濕式清洗機中用的晶片支承和/或輸送機。清洗晶片用的常規(guī)晶片濕處理機的構(gòu)成方式是，使晶片放在處于外槽里的內(nèi)洗槽中，清洗溶液從底部流入洗槽，溢流過槽，之后從外槽排出或在槽內(nèi)循環(huán)，由此清洗晶片。這里，晶片放在支承多個晶片的晶片支架上，并把晶片支架輸送進(jìn)洗槽。上述的晶片清洗機中用的常規(guī)洗槽已由美國專利5071776公開，晶片支架已由美國專利5011041公開，它有U形邊。常規(guī)的晶片濕式清洗機中，清洗溶液經(jīng)設(shè)置于清洗處理槽底的流控板流進(jìn)洗槽，清洗...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。