技術(shù)編號(hào):6827053
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。具體而言,本發(fā)明涉及對(duì)于Al和Cu布線以及其他金屬布線的防腐蝕性優(yōu)良的,同時(shí)光刻膠膜和灰化殘?jiān)锏膭冸x性優(yōu)良的。本發(fā)明優(yōu)選適用于制造IC或LSI等半導(dǎo)體元件或液晶板元件。背景技術(shù) IC或LSI等半導(dǎo)體元件或液晶板元件的制造方法是,在硅片等基板上用CVD蒸鍍法等形成導(dǎo)電性金屬膜或SiO2膜等絕緣膜,再在該膜上均勻涂布光刻膠,將其進(jìn)行選擇性的曝光、顯象處理,形成光刻膠圖案,以該圖案為掩模,選擇性地蝕刻上述CVD蒸鍍的導(dǎo)電性金屬膜或絕緣膜,形成微細(xì)回...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。