技術編號：6834525
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種，特別涉及一種用于阻止COD(破壞性光學損傷)水平降低的技術。背景技術 在制造高輸出的半導體激光器中，通常采用稱為不對稱涂覆法的方法來涂覆諧振腔的端面。為了達到高效地發(fā)射激光束的目的，采用不對稱涂覆法，在發(fā)射激光束的諧振腔的端面上形成低反射涂層，并在諧振腔的另一端面上形成高反射涂層。在不對稱涂覆法的準備階段，執(zhí)行稱為等離子體清洗的方法以便將諧振腔的端面的半導體疊層結構的解理面暴露于等離子體態(tài)的惰性氣體(例如氬氣)中數分鐘。當在空氣中分割半導體...
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