技術編號:6836195
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種薄膜晶體管(TFT)及其制造方法,并特別涉及一種通過金屬誘導橫向晶化(MILC)工藝形成的TFT及其制造方法。背景技術 可用于TFT的有源層的多晶硅層可通過在絕緣襯底上沉積非晶硅層、然后用熱來晶化該層形成。借助于熱處理的固相晶化(SPC)、借助于激光晶化的準分子激光退火(ELA)、以及金屬誘導橫向晶化(MILC)或其他類似方法可用于晶化非晶硅層。SPC法要求晶化所需的高溫,而ELA法需要昂貴的設備,激光的不穩(wěn)定性可能在多晶硅中產(chǎn)生與時間和空間...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權(quán),增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。