技術(shù)編號：6848284
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造工業(yè)中的光刻制程，尤其涉及對掩膜版的光學(xué)鄰近修正方法。背景技術(shù) 自1958年第一塊集成電路在美國德州儀器公司發(fā)明以來，集成電路產(chǎn)業(yè)取得了迅猛的發(fā)展，從最初一塊芯片(集成電路)上只有幾個元器件發(fā)展到現(xiàn)在的一塊芯片上超過百萬甚至千萬個器件。它的性能相應(yīng)的有了巨大的提高，被應(yīng)用在生活中的各個領(lǐng)域。集成電路成為了現(xiàn)代信息社會的核心。集成電路的制造技術(shù)也得到了相應(yīng)的巨大發(fā)展，從最初的一英寸硅片上生產(chǎn)幾個芯片到現(xiàn)在的12英寸(約300毫米)硅片上幾...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。