技術(shù)編號：6848302
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。發(fā)明的背景形成兩層面的布線結(jié)構(gòu)的一種常規(guī)方法是首先在襯底上形成一個兩層面互連結(jié)構(gòu)。襯底的表面可以是硅器件結(jié)構(gòu)的表面或襯底的表面可以是絕緣層。氧化物層典型地通過化學(xué)蒸汽淀積法沉積在襯底上。第一層面互連結(jié)構(gòu)是通過常規(guī)照相平版印刷方法來確定的，該方法形成了貫穿氧化物層的開孔，在該氧化物層中將形成第一層面互連結(jié)構(gòu)。一般，這些開孔在形成互連結(jié)構(gòu)的襯底中暴露出導(dǎo)體的多個部分。開孔內(nèi)填充了金屬互連體而形成互連體和形成金屬栓塞。然后，在氧化物層的表面上和在金屬栓塞上沉積了...
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