技術(shù)編號(hào)：6849413
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及形成NiP非磁性膜的方法和使用該NiP非磁性膜制造磁頭的方法，尤其涉及通過電解電鍍形成NiP非磁性膜的方法和使用所述NiP非磁性膜制造磁頭的方法。背景技術(shù) 圖6是示出磁頭讀出頭和寫入頭的層疊結(jié)構(gòu)的橫截面圖，圖7是從磁頭的負(fù)載空氣的表面看的讀出頭和寫入頭的解釋圖。磁頭10具有層疊在基材上的讀出頭20和寫入頭30。通過在下屏蔽層21和上屏蔽層22之間形成MR元件23來構(gòu)成讀出頭20。在寫入頭30中，在上屏蔽層22和上磁極32之間形成寫入間隙層33，所...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。