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本發(fā)明涉及一種制造包含多晶硅(Si)層的薄膜晶體管(TFT)的方法，使用該方法制備的TFT以及包含該TFT的平板顯示器件，更具體地，涉及一種用于制造TFT的方法，該方法通過在結(jié)晶化非晶硅膜之前控制非晶硅膜表面的均勻性為TFT提供了更加均勻的閾值電壓。背景技術(shù) 相關(guān)申請的交叉引用本申請要求于2004年4月29日申請的韓國專利申請No.10-2004-0030255的優(yōu)先權(quán)和利益，這里引用其全部內(nèi)容作為參考。通常，可以在低溫下結(jié)晶非晶硅以形成用于TFT有源層的...
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