技術(shù)編號(hào):6853687
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于真空斷路器、真空開關(guān)等的新型真空閥用電觸點(diǎn)和其他電觸點(diǎn)及其制造方法。背景技術(shù) 由于對(duì)真空斷路器等的配電設(shè)備提出了小型化要求,所以需要抑制真空閥內(nèi)的電觸點(diǎn)的熔敷、減小真空斷路器的操作力而使操縱器小型化。作為實(shí)現(xiàn)上述目的的手段,可向電觸點(diǎn)成分中添加低熔點(diǎn)金屬、使電極材料脆化,以降低用于分離已熔敷的電極間的力。專利文獻(xiàn)1(特愿2002-22657)專利文獻(xiàn)2(特愿2003-371369)在向電觸點(diǎn)成分中直接添加低熔點(diǎn)金屬的方法中,低熔點(diǎn)金屬以單體存...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。