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透明導電性金屬氧化物膜與太陽能電池的形成方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:6854503

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本發(fā)明涉及一種透明導電膜與光電元件的形成方法,且特別是涉及一種。背景技術(shù) 隨著全球半導體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,各種半導體材料的性質(zhì)與應用已不斷地被研究開發(fā)。在這些半導體材科中,具備半導性的透明導電膜的研究開發(fā)已成為一項基礎且重要的工作。所謂透明導電膜是指在可見光范圍內(nèi)(波長380-780nm)具有80%以上的透光率,且導電性高,其比電阻值低于1×10-3Ω·cm的薄膜。另外,透明導電膜的材料大致可分為金屬膜以及金屬氧化物膜。金屬(如Au、Ag、PI、Cu、Al等...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。

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