技術(shù)編號：6874672
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及等離子體處理裝置。背景技術(shù) 原來，在半導(dǎo)體的制造工序和液晶的制造工序中，使用了等離子體處理裝置。在等離子體處理裝置上設(shè)有把高頻電流供給RF電極(高頻電極)的供電部件，例如作為金屬導(dǎo)體的Ni棒(例如，參照專利文獻(xiàn)1-特開平11-26192號公報)。在對該供電部件施加高頻電壓時，因表面效應(yīng)，電流在供電部件的表面層(例如離供電部件的表面幾μm～幾十μm的深度范圍)集中流過，在徑向中央部幾乎沒有電流流過。雖然供電體的電阻由以下的(1)式表示，但如前所述，...
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