技術編號：6887894
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及外延室中基板的預清潔方法、系統(tǒng)與設備。更明確而言，本發(fā)明揭露 一 種在外延處理之前，先進行清潔處理以移除表面缺陷與污染物的外延沉積方法、系統(tǒng)與設備。背景技術外延層是生長于結晶基板上的結晶膜。下層基板通常用作正生長的膜的樣版，所以外延層的結晶特性由下層結晶基板所決定。亦即，結晶基板為外延生長提供結晶用的種晶。例如，基板可以是單晶硅、硅鍺、或絕緣層上覆硅(SOI)晶片。一般利用化學氣相沉積(CVD)以完成外延層的生長。基板晶片被載入CVD反應器中，并...
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