技術編號：6888959
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明一般地涉及半導體器件，更具體而言，涉及具有邏輯門的半導 體器件。背景技術半導體器件中互連層中的非均勻的圖案密度已成為半導體器件的制造中的一個日益麻煩的問題。當圖案密度變化時，在小波長(即，65nm) 下利用光刻形成小特征尺寸可能產生問題。這可能由光學鄰近效應引起， 光學鄰近效應可能在不同特征尺寸、形狀和/或不同圖案密度之間變化。各 種光學鄰近校正(OPC)技術已被用于補償這種不利的效應，其成功度有 所不同。由跨半導體器件的非均勻的圖案密度引起的另一個...
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