技術(shù)編號(hào):6893575
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及微電子,特別涉及一種用于等離子體處理設(shè)備中的氣體分配裝置。本發(fā)明還涉及一種包括上述氣體分配裝置的等離子體處理設(shè)備。背景技術(shù)等離子體處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于微電子。請(qǐng)參考圖1,圖1為現(xiàn)有技術(shù)中一種典型的等離子體處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。等離子體處理設(shè)備1通常包括殼體11,殼體11中具有反應(yīng)腔室12,反應(yīng)腔室12的頂部和底部分別相對(duì)應(yīng)地設(shè)有上極板13和下極板14。上極板13與殼體11之間由絕緣部件15隔離;下極板14的頂部可以支撐待處理加工件。上述加工件應(yīng)當(dāng)包...
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