技術(shù)編號(hào)：6895805
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及，特別涉及 能夠相對(duì)于具有環(huán)狀支撐板的支撐件每次多個(gè)地移載被處理基板的立 式熱處理裝置以及被處理基板移載方法。背景技術(shù)在半導(dǎo)體裝置的制造中，包括對(duì)被處理基板(例如半導(dǎo)體晶片)實(shí)施例如氧化、擴(kuò)散、CVD、退火等各種熱處理的工序，作為用于實(shí) 施這些工序的熱處理裝置的一種，使用批量式即一次能夠處理多個(gè)晶 片的立式熱處理裝置。該立式熱處理裝置包括下部具有爐口的熱處理爐；密閉該爐口 的蓋體；設(shè)置在該蓋體上、通過環(huán)狀支撐板在上下方向以規(guī)定間隔保 持多個(gè)晶片的...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。