技術(shù)編號：6898136
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及基片處理裝置。更具體地，本發(fā)明涉及用于在硅晶片之類的基 片上進(jìn)行涂層、烘烤和顯影處理的裝置。背景技術(shù)在半導(dǎo)體處理工藝中，光致抗蝕劑圖形可作為蝕刻掩膜用于蝕刻處理，該 蝕刻處理形成具有電特性的電路圖形。光致抗蝕劑圖形可由基片處理裝置形 成，或由與曝光裝置相連的光致抗蝕劑圖形形成裝置形成?；幚硌b置包括用于在基片上形成抗反射底涂層(BARC層)和光致抗 蝕劑層的涂層單元、用于固化BARC層和光致抗蝕劑層的加熱單元、用于在經(jīng) 曝光處理的基片上進(jìn)行曝光...
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