技術(shù)編號(hào)：6898432
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。這里描述的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例涉及對(duì)包括半導(dǎo)體襯底在內(nèi)的襯底的處理。背景技術(shù)多種類型的半導(dǎo)體部件和平板顯示器是利用等離子體處理設(shè)備來(lái)制造 的。這種設(shè)備在一般可以被稱為襯底的晶片或者玻璃上進(jìn)行各種工藝。公知為集群型(duster type)設(shè)備的一種類型的等離子體處理設(shè)備包括工藝室、 負(fù)載閉鎖室(load lock chamber)和傳送室。如目前構(gòu)造的那樣，這些室和它 們的附屬零件在尺寸上將很大，設(shè)計(jì)效率差，因此，不是所期望的。發(fā)明內(nèi)容相應(yīng)地，本發(fā)明提供了一種...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。